首页 > 标签 > 光刻 > 相关文章
  • 纳米压印光刻

    大同纳米压印光刻

    纳米压印光刻技术是一种先进的微电子制造技术,可以在芯片上制造出微小、高精度的结构,是实现人工智能、物联网和5G等高性能应用的重要手段之一。本文将介绍纳米压印光刻技术的原理、应用、优缺点等方面,以及未来...

    2024-04-20 12:30:178
  • 纳米压印与光刻相比具有哪些优势?

    大同纳米压印与光刻相比具有哪些优势?

    纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间,增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析,二次电子像,以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...

    2024-04-13 00:20:21215
  • 透射电子显微镜样品制备方法包括哪五种类型实验

    大同透射电子显微镜样品制备方法包括哪五种类型实验

    纳瑞科技(北京)有限公司(IonBeamTechnologyCo.,Ltd.)成立于2006年,是由在聚焦离子束(扫描离子显微镜)应用技术领域有着多年经验的技术骨干创立而成。透射电子显微镜(TEM)是...

    2024-04-03 20:10:16663
  • 离子束光刻机

    大同离子束光刻机

    纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间,增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析,二次电子像,以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...

    2024-03-29 02:56:21643
  • 芯片制造工艺流程及关键工艺

    大同芯片制造工艺流程及关键工艺

    fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材,以及应用开发和培训。芯片制造工艺流程涉及到从芯片设计、材料制备、制造、测试和包装等步骤。其中,关键工艺是确保芯片质量、可靠性和性能的重要环节。本文...

    2024-03-28 19:54:20394
  • fib离子减薄法步骤

    大同fib离子减薄法步骤

    fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材,以及应用开发和培训。Fibonacci离子减薄法在光刻胶制备中的应用光刻胶是半导体器件制造过程中不可或缺的物质,能够在光刻机上形成所需的微小图形。...

    2024-03-28 19:48:29403
  • 氩离子刻蚀原理

    大同氩离子刻蚀原理

    氩离子刻蚀(ArgonIon刻蚀)是一种用于微纳加工领域的关键技术,广泛应用于光刻、微电子、生物医学和能源等领域。氩离子刻蚀通过利用氩离子对材料进行刻蚀,可以在微米至纳米级别的高精度的表面进行加工,从...

    2024-03-28 09:44:23305
  • 离子束与电子束加工区别

    大同离子束与电子束加工区别

    纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间,增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析,二次电子像,以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...

    2024-03-28 01:18:20340
  • 离子束抛光机原理

    大同离子束抛光机原理

    fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材,以及应用开发和培训。离子束抛光机(IonBeamPolishingMachine)是一种用于光刻胶去除的设备,广泛应用于微电子、光电子和微机械等领...

    2024-03-27 19:36:25321
  • 芯片的制造流程详细

    大同芯片的制造流程详细

    fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材,以及应用开发和培训。芯片制造是一项高度精密的技术,需要将先进的材料和先进的制造技术结合起来。下面是一篇关于芯片制造流程的详细文章。1.芯片设计芯片...

    2024-03-27 14:42:22323